上海光机所激光薄膜“生长性”损伤问题研究取得新进展
本文摘要:近期,上海光机所激光薄膜生长性受损问题研究获得新进展,中科院强劲激光材料重点实验室明确提出面向凹坑型缺失的穿孔技术,以及基于电子束双源共计煮的交错界面多层膜技术,并通过实验证明能大幅度提高外用激光受损阈值。
本文关键词:上海,光机,新利luck,所,激光,薄膜,“,生长性,”,损伤
近期,上海光机所激光薄膜生长性受损问题研究获得新进展,中科院强劲激光材料重点实验室明确提出面向凹坑型缺失的穿孔技术,以及基于电子束双源共计煮的交错界面多层膜技术,并通过实验证明能大幅度提高外用激光受损阈值。 科研人员利用飞秒激光加工技术取得有所不同尺寸的坑点(直径:2-9m,深度:0.2-0.6m),定量化实验研究了基底表面有所不同尺寸的坑点对Nd:YAG激光基频波长低光线薄膜元件外用激光受损性能的影响;为有效地诱导了凹坑型缺失造成的微裂纹及电场和形变强化,科研人员明确提出了面向基底表面凹坑型缺失的穿孔技术,将坑点上基频光线膜层的受损阈值从~20J/cm2提高至~80J/cm2;针对分层破损的受损问题,明确提出基于电子束双源共计煮的交错界面多层膜技术,解决问题了传统多层膜中线性界面引发的诸多问题,将三倍频光线膜的本征受损阈值提高两倍以上。
涉及成果公开发表在国际知名的综合性期刊ScientificReports和光学类期刊Opt.Lett.。
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